1 상세 설명
정의
임플란트 재식립은 골유착 실패·주위염·파절로 제거한 임플란트 자리에 다시 임플란트를 심는 것입니다. 문헌상 재식립의 성공률은 첫 식립보다 다소 낮지만(약 85~90%), 원인을 교정하면 대부분 안정적으로 유지됩니다.
실패 원인 분석이 먼저
- 조기 실패 — 과열·초기 고정 부족·감염·조기 부하 → 술식 수정
- 후기 실패 — 주위염·과부하·이갈이·흡연·당뇨 → 위생·교합·전신 관리
- 기계적 실패 — 픽스처 파절·설계 부적절 → 직경·개수·보철 설계 변경
재식립 시기
| 방식 | 시기 | 조건 |
|---|---|---|
| 즉시 재식립 | 제거 직후 | 감염 없고 더 큰 직경으로 초기 고정 가능할 때 |
| 조기 재식립 | 4~8주 후 | 연조직 치유 후, 골결손이 작을 때 |
| 지연 재식립 | 3~6개월 후 | 감염·골결손이 커서 골이식이 필요할 때 |
과정
- 리무버 키트·트레핀으로 골 손실을 최소화하며 제거
- 염증 조직 완전 소파, 필요 시 골이식(GBR)
- 골 치유 후 CT 재평가
- 직경·길이·위치를 조정해 재식립, 충분한 골유착 기간 확보
한 번 실패한 부위는 뼈가 줄어 있는 경우가 많아 골이식이 동반될 가능성이 높습니다. 흡연·이갈이·혈당 관리 등 실패 요인을 함께 교정하지 않으면 같은 결과가 반복될 수 있습니다.