1 상세 설명
정의
지연 식립(Delayed Implant Placement)은 발치 후 일정 기간(4주~6개월)이 지나 연조직·경조직이 부분 또는 완전 치유된 상태에서 임플란트를 식립하는 술식이다. 감염 위험이 있거나, 협측 골벽이 파괴된 경우, 심한 골결손이 있는 환자에게 안전한 선택지다.
시기별 분류
- Early placement, soft tissue healing (Type 2): 발치 후 4~8주. 연조직 치유 완료, 골은 미성숙
- Early placement, partial bone healing (Type 3): 발치 후 12~16주. 골이 부분 성숙
- Late placement (Type 4): 발치 후 6개월 이상. 완전 골치유
적응증
- 발치 부위에 급성 감염·화농이 있는 경우
- 협측 골벽 결손이 심해 GBR·차폐막이 필요한 경우
- 낭종·염증성 병소가 존재하는 경우
- 심미 영역에서 연조직 볼륨 확보가 우선인 경우
- 환자 전신 상태·복용 약물로 즉시 수술이 부담스러운 경우
시술 과정
1단계로 발치·소파·감염 제거를 시행하고, 필요 시 발치와 보존술(socket preservation)로 이종골 이식과 차폐막을 적용한다. 2단계에서 CBCT로 골 성숙도를 평가한 뒤 임플란트를 식립한다. 골질이 D3~D4로 낮으면 osseodensification 기법이나 언더드릴링으로 초기 안정성을 확보한다.
장점과 단점
| 장점 | 단점 |
|---|---|
| 감염 완전 제거, 골벽 재생 후 식립, 심미 예측성 높음 | 총 치료 기간 연장(6~9개월), 발치 후 골흡수(폭 3~4mm) 발생 가능 |
임상 주의사항
지연 식립을 선택할 때는 반드시 발치와 보존술을 병행해 잔존 치조골의 3차원적 형태를 유지하는 것이 원칙이다. 발치 후 아무 처치 없이 6개월을 대기하면 협측 골벽이 평균 50% 이상 흡수되어 추가 GBR이 불가피해진다. 문치과병원은 발치 시점부터 최종 임플란트 식립까지 통합적 계획을 세워 골량 손실을 최소화한다.